标准简介:本标准规定了用光学投影仪测量硅片直径的方法。本标准适用于测量圆形硅片的直径,可测最大直径为��300mm。本标准不适用于测量硅片的不圆度。
标准号:GB/T14140-2009
标准名称:硅片直径测量方法
英文名称:Testmethodformeasuringdiameterofsemiconductorwafer
标准类型:国家标准
标准性质:推荐性
标准状态:现行
发布日期:2009-11-30
实施日期:2010-06-01
中国标准分类号(CCS):冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料
国际标准分类号(ICS):电气工程>>29.045半导体材料
替代以下标准:替代GB/T14140.1-1993;GB/T14140.2-1993
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
标准号:GB/T14140-2009
标准名称:硅片直径测量方法
英文名称:Testmethodformeasuringdiameterofsemiconductorwafer
标准类型:国家标准
标准性质:推荐性
标准状态:现行
发布日期:2009-11-30
实施日期:2010-06-01
中国标准分类号(CCS):冶金>>半金属与半导体材料>>H82元素半导体材料
国际标准分类号(ICS):电气工程>>29.045半导体材料
替代以下标准:替代GB/T14140.1-1993;GB/T14140.2-1993
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
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